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汎銓 2025Q2 法人說明會
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法人說明會
汎銓 2025Q2 法說會簡報重點與營運摘要

汎銓科技股份有限公司 (MSSCORPS CO., LTD.) 2025 Q1 營運概況

1. 公司概覽與重要資訊

  • 公司名稱: 汎銓科技股份有限公司 (MSSCORPS CO., LTD.)
    • 英文簡稱: MSS
  • 公司定位: 半導體產業高階製程領航者
  • 設立時間: 民國94年7月27日 (July 27, 2005)
  • 上市掛牌: 民國111年8月31日 (August 31, 2022)
  • 創辦人/管理團隊: 柳紀綸董事長兼總經理
  • 資本額: 新台幣5.18億元
  • 員工數 (2025 Q1): 680人 (2024 Q1: 605人; 2024 Q2: 615人; 2024 Q3: 630人; 2024 Q4: 650人)
  • 服務項目: 材料分析服務 (MA)、故障分析服務 (FA)
  • 聯絡資訊:
    • 地址: 1F,NO.27,Pu-ding Rd., Hsin-chu 30072, Taiwan, R.O.C
    • 電話: +886-3-6663298
    • 電子郵件: service@msscorps.com
    • 公司口號: Your best R&D partner

2. 產品、服務與技術

2.1 服務項目與市場定位

  • 材料分析服務 (MA) - 研發領航者 (R&D Leader):

    • 提供電晶體結構與成份分析,協助晶圓代工廠 (FAB) 快速達成以下任務:
      • 研發最先進製程,決定新設備的機型/新材料/製程參數。
      • 導入量產,新建產線的機台,必須證明與RD line 一致性。
      • 量產中,產線持續良率提昇。
    • 強調汎銓技術若停滯或速度變慢,客戶研發時程將會延誤。
  • 故障分析服務 (FA) - IC產品醫院 (IC Product Hospital):

    • IC設計/光罩階段: IC設計除錯與找出IC故障真因,加速客戶產品上市時間 (Time to market)。
    • 封測/載板/軟板/PCB 等階段:
      • IC電路修補,協助設計師找出設計錯誤點,並確認更改設計的有效性。
      • IC量產後,針對不良品,進行電測/故障點標定/結構/成份分析。
      • 運用 EFA (Electrical Failure Analysis) & PFA (Physical Failure Analysis) 技術找出IC故障真因。
    • 低損傷分析技術: 從晶圓代工取得絕對優勢,並擴展到半導體下游。
      • 應對材料多樣性/硬度差異/越做越薄/層和層結合力越來越弱的挑戰。
      • 開發一系列保護試片專利,減少熱和電的影響,避免產生人為缺陷。

2.2 分析技術分類與成長性 (2024 全年 vs 2025 Q1 業績占比)

分類 (Category)屬別 (Type)技術名稱 (Technology Name)MSS 強項 (MSS Strength)說明 (Description)2024 全年業績占比2025 Q1 業績占比2025~2026 展望
先進製程A°世代高NA EUV研發領航者提供電晶體結構與成份分析,協助晶圓代工廠 (FAB) 快速達成以下任務:研發最先進製程,決定新設備的機型/新材料/製程參數。54.3%55%上升
成熟製程9.4%8%下降
IC 故障分析EFA & PFAIC產品醫院運用 EFA (Electrical Failure Analysis) & PFA (Physical Failure Analysis) 技術找出IC故障真因。10.6%11%上升
矽光子 & AI晶片7.0%8%上升
海外18.7%18%上升

3. 近期營運表現與財務亮點

3.1 合併綜合損益表 (單位: 新台幣/千元)

項目 (Item)114年Q1 (2025 Q1)113年Q1 (2024 Q1)
勞務收入 (Service Revenue)464,693434,851
營業毛利 (Gross Profit)61,123109,406
毛利率 % (Gross Margin %)1325
營業費用 (Operating Expenses)(109,025)(91,481)
營業外收支 (Non-operating Income and Expenses)(3,051)(7,509)
稅前淨利 (Profit Before Tax)(50,593)10,416
所得稅費用 (Income Tax Expense)2,088(19,979)
本期淨利 (Net Profit for the Period)(48,865)(9,563)
EPS(元) (EPS (NTD))(0.94)(0.20)

3.2 合併資產負債表 (單位: 新台幣/千元)

項目 (Item)114/03/31 (2025/03/31) Amount%113/03/31 (2024/03/31) Amount%
資產 (Assets)
現金及約當現金 (Cash and Cash Equivalents)1,131,94019%713,73615%
應收帳款 (Accounts Receivable)666,49811%600,27513%
預付款項及其他流動資產 (Prepayments and Other Current Assets)193,0484%141,2003%
不動產、廠房及設備 (Property, Plant and Equipment)3,274,62755%2,410,91452%
使用權資產及其他非流動資產 (Right-of-use Assets and Other Non-current Assets)636,25311%791,33617%
資產總計 (Total Assets)5,902,366100%4,657,461100%
負債 (Liabilities)
短期借款&一年內到期之長期借款 (Short-term Borrowings & Current Portion of Long-term Borrowings)240,6674%186,7674%
應付帳款及其他應付款 (Accounts Payable and Other Payables)201,5094%393,4158%
其他流動負債 (Other Current Liabilities)146,3952%345,3028%
可轉換公司債 (Convertible Bonds)470,8608%--
長期借款 (Long-term Borrowings)1,430,86924%1,106,08224%
其他非流動負債 (Other Non-current Liabilities)279,4975%244,6605%
負債總計 (Total Liabilities)2,769,79747%2,089,45945%
權益 (Equity)
權益總計 (Total Equity)3,132,56953%2,568,00255%

3.3 合併現金流量表 (單位: 新台幣/千元)

項目 (Item)114年Q1 (2025 Q1)113年Q1 (2024 Q1)
期初現金及約當現金餘額 (Cash and Cash Equivalents at Beginning of Period)1,181,200622,110
營業活動之現金流量 (Cash Flows from Operating Activities)104,325152,600
購置不動產、廠房及設備 (Purchase of Property, Plant and Equipment)(259,438)(404,176)
舉借長短期借款 (Borrowing of Short-term and Long-term Loans)207,000411,000
償還長期借款 (Repayment of Long-term Loans)(104,589)(45,864)
其他 (Other)3,44221,934
期末現金及約當現金餘額 (Cash and Cash Equivalents at End of Period)1,131,940713,736

4. 近期績效與關鍵指標

4.1 最近十年度營收成長趨勢 (單位: 新台幣千元)

  • 複合年均增長率 (CAGR): 14.35%
  • 年度營收 (約略值):
    • 2015: ~560,000
    • 2016: ~600,000
    • 2017: ~660,000
    • 2018: ~740,000
    • 2019: ~880,000
    • 2020: ~1,160,000
    • 2021: ~1,500,000
    • 2022: ~1,780,000
    • 2023: ~1,900,000
    • 2024: ~1,980,000

4.2 2023~2025年度 月營收趨勢 (單位: 新台幣千元)

  • 2023年 (約略值):
    • 1月: ~125,000 | 2月: ~118,000 | 3月: ~160,000 | 4月: ~158,000 | 5月: ~165,000 | 6月: ~168,000 | 7月: ~165,000 | 8月: ~160,000 | 9月: ~160,000 | 10月: ~140,000 | 11月: ~145,000 | 12月: ~160,000
  • 2024年 (約略值):
    • 1月: ~160,000 | 2月: ~120,000 | 3月: ~175,000 | 4月: ~170,000 | 5月: ~170,000 | 6月: ~170,000 | 7月: ~170,000 | 8月: ~170,000 | 9月: ~170,000 | 10月: ~160,000 | 11月: ~160,000 | 12月: ~160,000
  • 2025年 (約略值):
    • 1月: ~170,000

4.3 2022~2025年度 季營收趨勢 (單位: 新台幣千元)

  • 季營收 (約略值):
    • 2023Q1: ~400,000
    • 2023Q2: ~480,000
    • 2023Q3: ~480,000
    • 2023Q4: ~460,000
    • 2024Q1: ~420,000
    • 2024Q2: ~480,000
    • 2024Q3: ~500,000
    • 2024Q4: ~480,000
    • 2025Q1: ~450,000

4.4 2023~2025年度 各季毛利率分析

  • 毛利率 %:
    • 2023年: Q1: 25% | Q2: 39% | Q3: 40% | Q4: 37%
    • 2024年: Q1: 22% | Q2: 31% | Q3: 27% | Q4: 27%
    • 2025年: Q1: 13%

4.5 最近五年度獲利表現與股利分配 (單位: 新台幣千元/元)

項目 (Item)20202021202220232024
營業收入 (Operating Revenue)1,113,1841,469,8811,726,4271,880,5751,966,669
稅後純益 (Net Profit After Tax)159,106252,493287,998261,28064,963
EPS(元) (EPS (NTD))4.056.216.675.591.34
股利分配 (Dividend Distribution)2.54.55.54.51

5. 未來展望與指引

5.1 市場展望 (以汎銓角度看目前「分析檢測市場」)

  • 案件需求持續增加: 聚焦 A°世代先進製程、矽光子、AI晶片分析。
  • 委託量趨緩: 第二類、第三類、CMOS影像感測器、高壓元件、成熟邏輯及記憶體等相關應用的客戶族群,面對中國成本競爭的壓力。

5.2 產品組合變化 (2024 Q1 vs 2025 Q1)

  • 2024 Q1:
    • 故障分析 (FA): 10%~15%
    • 材料分析 (MA): 85%~90%
  • 2025 Q1:
    • 故障分析 (FA): 10%15% (交期: 1天1週;業績認列: 當月進案、當月結案,當月認列業績)
    • 材料分析 (MA): 85%90% (交期: 12小時3天內;業績認列: 當月進案、當月結案,當月認列業績)
    • 趨勢: 產品組合預計保持穩定。

5.3 市場組合變化 (2024 Q1 vs 2025 Q1)

  • 2024 Q1:
    • 大陸 (Mainland China): 15%~20%
    • 台灣 (Taiwan): 80%~85%
  • 2025 Q1:
    • 大陸 (Mainland China): 20%~25%
    • 台灣 (Taiwan): 75%~80%
    • 趨勢: 大陸市場佔比預計增加,台灣市場佔比預計減少。

6. 戰略舉措與計劃

6.1 海外佈局 (2024年積極佈局)

  • 南京汎銓:
    • 已取得「高新技術企業」資質,享受稅收減免優惠政策。
    • 擴增深圳廠區,預計將於2025年07月啟用。
  • MSS USA CORP.:
    • 已於2025年05月開幕,投入營運。
  • MSS Japan 株式會社:
    • 實驗室建置中,預計2025年Q3投入運營。
  • 歐洲:
    • 因應客戶邀約,將於歐洲設立營運據點。

6.2 台灣營運廠區規劃

  • 材料分析本部 + 竹北二廠: 專注於1.4奈米及以下製程的材料分析。
  • 營運總部擴建: 規劃「矽光子測試及定位分析」專區。
  • 竹北一廠: 定位為「AI客戶專區」。
  • 埃米世代材料分析 - 「SAC-TEM Center」: 預計2025年Q3投入營運。
  • 竹北三廠: 預計2026年起規劃為「AI客戶專區」及「矽光子測試及定位分析」。

6.3 參與先進技術研發

  • 參與下一世代high NA EUV 曝光機使用MOR (金屬層氧化物)EUV 光阻的研發。
    • 相關技術成果包括: GP18 CD: 8.88 nm, ULWR: 2.07 nm, (HR)TEM 20 nm。

7. 關鍵圖表與數據點

  • 汎銓分析技術分類與成長性 (2025 Q1 業績占比):

    • 先進製程 (A°世代): 54.3% (展望: 上升)
    • 成熟製程: 9.4% (展望: 下降)
    • IC 故障分析: 10.6% (展望: 上升)
    • 矽光子 & AI晶片: 7.0% (展望: 上升)
    • 海外: 18.7% (展望: 上升)
  • 故障分析流程:

    • 電氣特性檢測 -> 非破壞分析 -> 樣品處理 -> 標定故障點 -> 物性故障分析。
    • 樣品處理 -> GDS 定位 -> IC 線路修補 -> 修改後驗證。
  • 材料分析流程:

    • 進案製備 -> FIB 切削+吸針 -> TEM 拍攝+EDS -> 數據自動量測 -> 報告資料整理。
  • 專利技術與期間:

    • 低溫原子層鍍膜專利: 2020~2039
    • 導電膠保護膜專利: 2022~2040
    • 原子層導電膜專利: 2022~2041
    • 影像自動量測專利: 2022~2040

8. 聲明與註釋

  • 報告編號: Form No: Q4-MA01 Ver.1.2
  • 機密性聲明: Confidential, Do Not Copy Without Permission

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