瑞儀光電股份有限公司 (Radiant Opto-Electronics Corporation) 2024Q4 法人說明會
公司概覽與業務範疇
- 公司名稱:瑞儀光電股份有限公司 (Radiant Opto-Electronics Corporation)
- 活動:法人說明會
- 日期:2024.10.01
Radiant Group 簡介
- 成立年份:1995年
- 歷史:30年
- 出貨量:已出貨超過10億個背光模組單位。
- 核心能力:內部設計、母模製作與複製 (In-house Design, Masters & Replication)。
NIL Technology 簡介
- 成立年份:2006年
- 核心能力 (內部):
- 電子束微影 (E-Beam Lithography)
- 晶圓級壓印 (Wafer Level Imprinting)
- 蝕刻 (Etching)
- 光學設計 (Optical Design)
- 光學特性分析 (Optical Characterization)
- 團隊:65名全職員工 (FTE),其中25名擁有博士學位,18名擁有碩士學位。
- 專利:81項專利 (其中75項為專利申請中)。
- 垂直整合:設計 (Design) → 原型製作 (Prototyping) → 量產 (Mass production): NIL → 測試 (Testing)。
- 管理層:
- 執行長 (CEO):Theodor Nielsen
- 技術長 (CTO):Brian Bilenberg
Nanocomp 簡介
- 成立年份:1997年
- 核心能力 (內部):
- 無光罩雷射灰階微影 (Maskless Laser Greyscale Lithography)
- 電鑄 (Electroforming)
- UV捲對捲壓印 (UV Roll-to-Roll Imprinting)
- 光學設計 (Optical Design)
- 光學特性分析 (Optical Characterization)
- 歷史:27年
- 出貨量:已出貨超過5000萬個前光導板單位。
- 團隊:70名全職員工 (FTE),其中9名擁有博士學位,7名擁有碩士學位。
- 垂直整合:設計 (Design) → 原型製作 (Prototyping) → 量產 (Mass production): R2R → 測試 (Testing)。
- 核心能力:內部材料開發 (In-house material development)。
- 管理層:
- 執行長 (CEO):Veli-Pekka Leppänen
- 技術長 (CTO):Samuli Siitonen
全球佈局 (Radiant Group)
- 研發 (R&D) 據點:
- 台灣:高雄、新竹
- 芬蘭:約恩蘇 (Joensuu)
- 丹麥:哥本哈根 (Copenhagen)
- 瑞典:哥德堡 (Gothenburg)
- 瑞士:蘇黎世 (Zurich)
- 製造 (Manufacturing) 據點:
- 台灣:高雄
- 中國:吳江、南京、廣州
- 越南:義安 (Nghe An)
- 馬來西亞:檳城 (Penang)
財務亮點與關鍵指標
- NILT 收購財務影響 (討論項目,無具體數字):
- 現金流量 (Cash Flow)
- 資本支出 (Capital Expenditure)
- 折舊 (Depreciation)
- 費用 (Expenses)
- NILT 盈利 (NILT Profitability)
近期表現與成果
- Radiant:30年經驗,已出貨超過10億個背光模組單位。
- Nanocomp:27年經驗,已出貨超過5000萬個前光導板單位。
- NIL Technology:18年經驗,已向技術領導者出貨AR母模 (AR Masters)。
- Meta-Optics 產品展示:
- 2M、緊湊型相機、850 nm。
- 超緊湊型近紅外相機 (Ultra compact NIR camera)。
- 已於2024年舊金山Photonics West展會上展示。
未來展望與指導
- 光學的未來 (The Future of Optics):
- 超透鏡 (Meta-optics):透過奈米結構取代傳統透鏡中的曲面。
- 應用:實現超緊湊型光學感測器、發光器和相機。
- AR波導 (AR Waveguides)。
- 市場預測:
- 3D成像與感測市場:預計到2028年達到170億美元。
- 緊湊型相機市場:預計到2028年達到470億美元。
- AR目鏡:預計到2029年將生產2000萬個。
戰略舉措與計劃
- 垂直整合:
- NIL Technology:設計 → 原型製作 → 量產 (NIL) → 測試。
- Nanocomp:設計 → 原型製作 → 量產 (R2R) → 測試。
- 全球最以客戶為中心的光學解決方案供應商 (The World's Most Customer-Centric Optical Solution Provider):
- 透過整合 Radiant、Nanocomp 和 NIL Technology 的核心能力,提供從母模製作到複製,再到光學元件的全方位解決方案。
關鍵圖表、圖形與數據點
- 光學尺度與能力圖:
- 展示從100 μm到10 nm尺度的光學元件與其效果。
- 包含:典型擴散器輪廓 (Typical diffuser profile on screen)、典型扇出點 (Typical fanout spots on screen)、典型點擴散函數 (Typical point spread function)。
- Meta-Optics 性能圖:
- 調製傳遞函數 (Modulus of the OTF) 曲線圖。
- 橫軸:空間頻率 (Spatial Frequency in cycles per mm)。
- 顯示:多色衍射MTF (Polychromatic Diffraction MTF)。
- Dot Projectors 圖像:
- VCSEL 圖像。
- 5x5 FOI: 144°x70° 圖像。
- 3x3 FOI: 70°x40° 圖像。
- AR Masters 圖像:
- 傾斜、閃耀和二元光柵 (Slanted, blazed and binary gratings) 的圖像。
- 全球佈局地圖:標示 Radiant Group 的研發與製造據點。
所有重要產品名稱、術語與概念
- 公司/品牌:
- 瑞儀光電股份有限公司 (Radiant Opto-Electronics Corporation)
- NIL Technology
- Nanocomp
- Radiant Group
- 技術/製程:
- 電子束微影 (E-Beam Lithography)
- 晶圓級壓印 (Wafer Level Imprinting)
- 蝕刻 (Etching)
- 無光罩雷射灰階微影 (Maskless Laser Greyscale Lithography)
- 電鑄 (Electroforming)
- UV捲對捲壓印 (UV Roll-to-Roll Imprinting / R2R UV Imprinting)
- CNC加工 (CNC Machining)
- 雷射雕刻 (Laser Engraving)
- 模具射出 (Mold Injection)
- 複製 (Replication)
- 垂直整合 (Vertical Integration)
- 內部材料開發 (In-house material development)
- 產品/元件/應用:
- 背光模組 (Back-light module / BLU)
- 前光導板 (Front-light guide plate / FLG)
- AR母模 (AR Masters)
- 超透鏡 (Meta-Optics)
- 波導 (Waveguide)
- 衍射光學元件 (Diffractive Optical Element / DOE)
- 抗眩光 (Anti-Glare / AG)
- 微透鏡陣列 (Micro Lens Array / MLA)
- 緊湊型相機 (Compact Camera)
- 近紅外相機 (NIR camera)
- 點陣投影器 (Dot Projectors)
- 光柵 (Gratings: Slanted, blazed and binary)
- 光學感測器 (Optical sensors)
- 發光器 (Light emitters)
- AR目鏡 (AR eye-pieces)
- 前置相機 (Front Camera - visible)
- 接近感測器 (Proximity Sensor)
- 臉部識別 (Face ID)
- 紅外相機 (IR Camera)
- 紅外點陣投影器 (IR Dot Projector)
- 紅外泛光照明器 (IR Flood Illuminator)
- 閃光燈透鏡 (Flash lens)
- 光達 (LIDAR)
- 單光子雪崩二極體 (SPAD)
- 主相機 (Main Camera - visible, 3x)
- 駕駛員監控系統 (Driver Monitoring Systems / DMS)
- 乘員監控系統 (Occupant Monitoring System / OMS)
- 飛行時間感測器 (Time-of-Flight / ToF)
- 眼球追蹤模組 (Eyeball Tracking Module)
- 導光板 (Lightguides)
- 定向導光板 (Directional light guide)
- 光管理薄膜 (Light managements films)
- 單位/縮寫:
- FTE (Full-Time Equivalent)
- PhD (Doctor of Philosophy)
- FOV (Field of View)
- OTF (Optical Transfer Function)
- MTF (Modulation Transfer Function)
- nm (nanometer)
- μm (micrometer)
- um (micrometer)
- sub-um (sub-micrometer)
- bn$ (billion US dollars)
- M (million)
產品、服務與技術
Rx/Tx 參考產品 + AR 母模
- 超透鏡 (Meta-Optics):
- 產品:2M、緊湊型相機、850 nm。
- 技術規格:超緊湊型近紅外相機。
- 展示:已於2024年舊金山Photonics West展會上展示。
- 點陣投影器 (Dot Projectors):
- 產品:1M、940 nm。
- 技術規格:
- 客製化M x N平鋪、客製化視野 (Custom tiling M x N, custom FOV)。
- 創紀錄的效率、均勻度、對比度 (Record setting efficiency, uniformity, contrast ratio)。
- 1個超表面 (meta surface) 取代多個準直透鏡堆疊和DOE。
- AR 母模 (AR Masters):
- 技術規格:傾斜、閃耀和二元光柵 (Slanted, blazed and binary gratings)。
- 服務:根據客戶規格製作 (Made to customer specs)。
消費性電子產品應用
- 智慧型手機相機模組:
- 前置相機 (可見光):接近感測器。
- Face ID:紅外相機 (IR Camera)、紅外點陣投影器 (IR Dot Projector)、紅外泛光照明器 (IR Flood Illuminator)。
- 主相機 (可見光,3倍):閃光燈透鏡 (Flash lens)、光達 (LIDAR) (包含點陣投影器 & SPAD)。
汽車應用
- 車載感測系統:
- 駕駛員監控系統 (Driver Monitoring Systems / DMS)。
- 乘員監控系統 (Occupant Monitoring System / OMS)。
- 光達 (LIDAR)。
穿戴式裝置應用
- AR 眼鏡:
- 飛行時間感測器 (ToF)。
- 波導 (Waveguide)。
- 眼球追蹤模組 (Eyeball Tracking Module)。
光學元件產品組合 (Optical Element Portfolio)
- 母模製作 (Master):
- 電子束微影 (E-Beam Lithography) - NIL Technology。
- 雷射灰階微影 (Laser Greyscale Lithography) - Nanocomp。
- CNC加工、雷射雕刻 (CNC Machining, Laser Engraving) - Radiant。
- 複製 (Replication):
- 晶圓級壓印 (Wafer Level Imprinting) - NIL Technology。
- R2R UV壓印 (R2R UV Imprinting) - Nanocomp。
- 模具射出 (Mold Injection) - Radiant。
- 光學元件 (Optics) (按尺度分類):
- 奈米級 (nm):超透鏡 (Meta-Optics)、波導 (Waveguide)、衍射光學元件 (DOE)。
- 亞微米級 (sub-um):抗眩光 (AG)、微透鏡陣列 (MLA)。
- 微米級 (um):前光導板 (FLG)、背光模組 (BLU)。