返回搜尋
全新 2024Q4 法人說明會
2455上市
法人說明會
全新 2024Q4 法說會簡報重點與營運摘要

VPEC 2024Q3 法說會簡報

公司概覽

  • 公司名稱:VPEC
  • 核心理念:MOCVD創造世界級之競爭力

產品、服務與技術

  • 核心技術:MOCVD(有機金屬氣相沉積法)
    • 生產機台:MOCVD有機金屬化學氣相沉積法
    • 生產方式:透過有機金屬化學氣相沉積法,在基板上生長半導體薄膜
    • 生產原理:磊晶層是由MOCVD在腔體中加熱基板,一個原子層,層層堆疊,形成磊晶層
    • MOCVD製程組件:Hydride(氫化物)、Alkyl Source(烷基源)、Run/Vent Assembly(運行/排氣組件)、Reaction Chamber(反應腔)、Baratron(巴拉創壓力計)、Throttle Valve(節流閥)、Vacuum Pump(真空泵)、Pressure Control(壓力控制)
  • 磊晶過程中之化學反應:
    • Ga(CH3)3 + AsH3 ==> GaAs + CH4
    • In(CH3)3 + PH3 ==> InP + CH4
  • 主要原物料:
    • MO Source(有機金屬源):
      • TEAl:Tri-ethyl-Aluminum(C2H5)3Al
      • TMGa:Tri-Methyl-Gallium(CH3)3Ga
      • TMIn:Tri-Methyl-Indium(CH3)3In
      • DETe:Di-ethyl-Tellurium(C2H5)2Te
      • DEZn:Di-ethyl-Zinc(C2H5)2Zn
      • CP2Mg:Bis(cyclo-penta-dienyl)-Magnesium(環戊二烯鎂)
    • Hydride(氫化物):
      • AsH3:Arsine(砷烷)
      • PH3:Phosphine(磷化氫)
      • SiH4:Silane(矽烷)
      • Si2H6:Disiline(乙矽烷)
      • H2Se:Hydrogen Selenide(硒化氫)
      • CBr4:Carbon Tetrabromide(四溴化碳)
    • Carrier Gas(載氣):H2(氫氣)
  • 化合物半導體材料特性:
    1. High Electron Mobility(高電子移動速率):5.7x higher than CMOS
    2. High Frequency Response(高頻率響應)
    3. Wide Band Width(寬幅之頻寬)
    4. High Linearity(高線性度)
    5. High Power(高功率)
    6. Alternative Choice of Material(材料選擇多元性)
    7. 抗輻射(Radiation Hardness)
  • 適用產品:
    • 微電子產品:HBT(異質結雙極電晶體)、pHEMT(假高電子遷移率電晶體)、BiHEMT(雙極異質結高電子遷移率電晶體)、GaN on XX
    • 光電子產品:PIN(PD - 光電二極體、APD - 雪崩光電二極體)、VCSEL(垂直腔面發射雷射)、LD(雷射二極體)、SC(太陽能電池)
  • 半導體分類(依使用材料):
    • 元素半導體:Si(矽)、Ge(鍺)
    • 化合物半導體:
      • III-V族:GaAs(砷化鎵)、InP(磷化銦)、GaN(氮化鎵)、GaP(磷化鎵)、GaSb(銻化鎵)等
      • II-VI族:ZnSe(硒化鋅)、ZnS(硫化鋅)、CdS(硫化鎘)等
      • IV-IV族:SiC(碳化矽)、SiGe(矽鍺)
    • 化合物類型:
      • 二元化合物 Binary:GaAs、InP、GaP、GaN等
      • 三元化合物 Ternary:InGaAs、InGaP、AlGaAs等
      • 四元化合物 Quaternary:AlGaInP、InGaAsP等
      • 五元化合物 Pentanary:AlGaInAsN等

產業供應鏈

  • 微電子產品產業供應鏈:
    1. 基板(Substrate):2~6" GaAs Substrate(供應商:Sumitomo、Freiberg、AXT)
    2. GaAs 磊晶片(Epi-Wafer):VPEC is a Pure Epi Provider(使用MOCVD Reactor)
    3. 微電子積體電路製程(Microelectronics IC Process):
      • IDM(整合元件製造商):Qorvo、Skyworks
      • Fabless(無晶圓廠):Avago、Qualcomm、Richwave
    4. 積體電路封裝與測試(IC Package & Testing):
      • Foundry(晶圓代工廠):WIN(穩懋半導體)、AWSC(宏捷科技)
    • 終端應用:Wireless Communication(無線通訊)

財務亮點與關鍵指標

  • 2021年-2024年前三季損益情形(單位未標示,通常為新台幣千元或百萬元)
項目2024Q1-Q3%2023%2022%2021%
Revenue(營收)2,518,743100%2,694,104100%2,603,629100%3,608,521100%
Gross margin(毛利率)1,018,81540%1,108,91441%1,089,00742%1,519,71342%
Operating Profit(營業利益)599,08624%542,06920%579,95022%1,056,51929%
Non-operating income & expense(非營業收入及支出)54,5772%-3470%87,5333%-3,8420%
Tax(稅額)-115,469-5%-91,490-3%-122,755-5%-197,596-5%
Net income(淨利)538,19421%450,23217%544,72821%855,08124%
EPS(每股盈餘)2.912.432.954.62

未來展望與指引

  • 2024 Outlook
    • 微電子產品(Microelectronic Products):
      • 5G Mobile Penetration(5G行動通訊滲透率)
      • WiFi 7
      • V2X(車聯網通訊)
      • IoT Smart Link(物聯網智慧連結)(4G PA - 4G功率放大器)
    • 光電子產品(Optoelectronic Products):
      • Data Center High Speed Connectivity(資料中心高速連接):PD for 800G(800G光電二極體)、VCSEL for 400G(400G垂直腔面發射雷射)
      • 3D-sensing(3D感測):VCSEL / PD
      • AR/VR(擴增實境/虛擬實境):VCSEL
      • Future Driving Engines(未來駕駛引擎):P-sensor(光感測器)、3D Sensing & ToF(飛時測距3D感測)、Car LiDAR(車用光達)(LD - 雷射二極體 / PD - 光電二極體)
        • 相關技術:AI glass(AI玻璃)、矽光子(Silicon Photonics)
      • LEO Solar Cell(低軌衛星太陽能電池)

🤖 FinmoAI

BETA
AI 驅動 • 法說會分析
法說會逐字稿
生成重點摘要和投資要點
挖掘潛在投資機會
體驗 AI 智能分析

📱 即時通知服務

加入我們的 Telegram 機器人 @diveinvest_bot,每晚 8 點自動推送最新法說會簡報。

加入 Telegram 通知